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東研のキーテクノロジー・�樟�源開発

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私たち東研は、1999年独自開発した電子銃を応用し、世界で初めて分解能0.4μmの�樟�源を搭載した�樟�装置を世に送り出しました。 世界が必要としているナノレベル領域の解析のために、当社は�樟�源開発の先駆者として、より高精度な�樟�検査装置でお応えしていきます。

0.1μm超高分解能開放管�樟�源のご紹介
0.1μm�樟�源原理図

�樟�源の電子銃に世界で初めてＦＥ （フィールド・エミッション）電子源を採用して、東研独自の「In-Lends Field Emission Gun方式 （電子を加速しながら曲げる方式）で、世界最高の0.1μmの超高分解能をもつ�樟�源の開発に成功しています。
Ｘ線源新旧比較
0.1μmマイクロチャート画像
0.4μmX線源原理図

２段の縮小レンズとレンズの収差補正を持った電子光学系と、フィラメントに高電子流密度エミッター（LaB6)を採用した電子源の組み合わせによって 東研は世界で初めて高分解能かつ高輝度を実現する焦点サイズ１μm以下の超微小焦点�樟�源を開発しました。

この�樟�源はサンプルに応じて分解能が0.4・0.6・1・3μmにワンクリックで可変ができるので高拡大率でシャープな画像が得られ、 低倍率でより明るい画像を得る事が出来ます。

0.4μm�樟�源焦点部
TX-300のマイクロチャート画像
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